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(제2기 기반과정) 양자기술구현을 위한 E-beam Lithography 직접사용교육(실습)

2023-08-01 1,630

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2023년 양자기술 신진인력양성

(제2기 기반과정) 양자기술구현을 위한 E-beam Lithography 직접사용교육(실습)

□ 교 육 명 : 양자기술구현을 위한 E-beam Lithography 직접사용교육(실습)

□ 교육목표 : 양자 컴퓨터의 동작 원리 및 유형별 Qubit 구조를 이해하고 이를 제작하는 주요 공정장비를 직접 사용할 수 있는 신진/전문 인력양성

□ 교육안내

◦교육대상 : 양자기술분야에 관심 있는 대학(원)생 및 졸업자(미취업자), 재직자(연구원포함)

◦교육기간 및 모집인원

가. 기초이론 교육(선택과정)

이론교육(선택)

모집인원

교육일정

비고

기초이론(초급)

20명이내

(선착순)

23.08.28 ~ 29

* 차기 기초이론 일정(예정) : 10월(초/중급), 12월(초/중급)

나. 기반기술 직접사용(실습) 교육(필수과정)

실습교육(필수)

모집인원

교육일정

비고

기반기술

9명

(선착순)

A조(23.08.16.~17)

3명

예비 3명 별도 모집

*결원발생시 충원

B조(23.08.23.~24)

3명

C조(23.08.30.~31)

3명

◦교육장소 : 한국나노기술원(수원 영통 광교로 109) 5층 양자교육장 및 Fab.

◦교육지원 : 교육비(무료), 중식(제공), 수료증 발급, 교재 및 실습기자재(제공)

◦신청기간 : 2023년 8월 1(화) ~ 8월 4일(금) * 선착순으로 마감되는 경우 조기 종료될 수 있음

◦신청방법 : 홈페이지(www.kanc.re.kr) 접속 > 교육공고 > 교육 신청


□ 문의처 : 나노인력양성실(김정수), 031-546-6514, jeongsoo.kim@kanc.re.kr


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